Очистка деталей в плазме тлеющего разряда

Ключевые слова: ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД, ПЛАЗМЕННАЯ ОЧИСТКА, АНОДНО-РЕЗОНАТОРНАЯ СИСТЕМА, МИКРОЗАУСЕНЦЫ

Аннотация

Выпуск серийных и новых электровакуумных приборов СВЧ диапазона (ЭВП СВЧ), а также обеспечение стабильных эксплуатационных параметров в значительной степени зависит от чистоты поверхностей элементов прибора, находящихся в вакуумной полости.
Одной из причин брака ЭВП является отравление катода, происходящие: из-за отравления остаточными газами в приборе (CO, CO2 и др.); газами, выделяющимися при электронной бомбардировке электродов (CO, О2); напылённые металлические плёнки. Другой причиной брака является наличие микрозаусенцев в анодно-резонаторной системе, образующихся в процессе механообработки, приводящие к межэлектродным пробоям и искрениям. Удаление с поверхностей деталей прибора окисных плёнок, жировых и солевых загрязнений, инородных включений, ворсинок и пылинок посторонних материалов способствует улучшению эмиссионных характеристик катодов, устранению электрических утечек, нарушений однородности электрических полей. Эффективная очистка поверхностей в ряде случаев позволяет сократить длительность трудоёмких процессов термической обработки приборов в вакууме и их откачку. Метод очистки внутренних деталей ЭВП, не оказывающий изменение геометрических размеров, приводящих к нарушению работы прибора и смещению его рабочей частоты.
Основной задачей данной работы является поиск оптимальных условий инициирования и поддержания в рабочей камере тлеющего разряда, зависящего от множества факторов, таких как состав и концентрация рабочего газа, глубина вакуума в камере, конфигурация обрабатываемых деталей, разность потенциалов между электродами, длительность обработки и др. Оценка степени загрязненности детали с помощью растровой электронной микроскопии (РЭМ).

Keywords: GLOW DISCHARGE, PLASMA CLEANING, ANODE-RESONATOR SYSTEM, MICRO BURRS

Abstract