Особенности определения оптических констант тонких пленок металлов

Ключевые слова: ОПТИКА, ТОНКИЕ ПЛЕНКИ, МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ

Аннотация

Разработка и производство металлоптических покрытий является востребованной, но сложной задачей. Сложность расчета и воспроизводства металлоптическихконструкций в первую очередь заключается в проблеме достоверного и точного определения оптических констант(n и k) применяемых металлических пленок. Как правило, метод определения оптических констант тонких пленок будь то диэлектрических пленок оксидов или пленок металлов заключается в математическом моделировании - решении обратной задачи - расчете в среде вычислительных программ (в нашем случае расчетный модуль OptiChar программы OptiLayer) спектральных зависимостей пропускания и отражения, которые соответствуют измеренным спектральным зависимостям пропускания и отражения реально полученной пленки металла. Сложность определения оптических констант пленок металлов усугубляется определением геометрической толщины пленки металла в оптической конструкции светофильтра. На примере исследования пленки никеля показана важность правильного выбора стартовых значений математического расчета и необходимость обязательного измерения отражения от обратной стороны покрытия. Обоснована необходимость нанесения дополнительных слоев диэлектрических материалов с известными оптическими константами, позволяющая получать более точные и достоверные данные.
В работе приведены результаты влияния на оптические свойства пленки металла химического состава подложки, на которую она нанесена.

Keywords: OPTICS, THIN FILMS, MAGNETRON SPUTTERING

Abstract