Опыт создания вакуумного технологического оборудования в Китае

Ключевые слова: ВАКУУМНОЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ, ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ ПОКРЫТИЯ

Аннотация

Особенности разработки вакуумного технологического оборудования для нанесения тонкопленочных покрытий китайскими предприятиями проанализированы по результатам международной научно-технической конференции “International Conference of Advanced Coatings and Films”, состоявшейся в КНР в ноябре 2023 года в городе Шеньчжэнь (Shenzhen), а также по итогам посещения предприятий, производящих такое оборудование.
В докладе представителей института перспективных покрытий и материалов университета города Тайчжоу (Taizhou) показаны результаты разработки нового металлорежущего инструмента и разработки и исследования перспективных упрочняющих покрытий этого инструмента. Характеристики нанесенных покрытий измеряются с помощью Раман спектрометра, рентгеновского фотоэлектронного спектрометра, наноиндентирования и другого современного аналитического оборудования.
Особенностью работы предприятий, выпускающих вакуумное технологическое оборудование, является не только создание самого оборудования, но и отработка на нем технологических режимов упрочнения инструмента, с помощью которого затем изготавливаются детали этого оборудования. Примером такого подхода служит оборудование, выпускаемое предприятием Huasheng – установки разрабатываются под конкретную технологию, хотя часто имеют единую конструктивную базу.
Так, установка G4-500 реализует технологию Super HiPIMS, установка из серии DLC – DLC1500 в качестве ключевой технологии имеет магнетронное распыление на постоянном токе и стимулированное плазмой CVD, установка ТС800 реализует технологию нанесения покрытий из тетрагонального аморфного углерода tα-С, а установка DA600 из «алмазной» серии имеет ключевую технологию – CVD с горячей нитью. По словам разработчиков этих установок они «продают не оборудование, а технологию, что стоит гораздо дороже».
Опыт общения с представителями китайских предприятий позволил сделать предположение, что интерес к российским и белорусским участникам конференции обусловлен более глубокой теоретической проработкой, выявлением тенденций развития и новых подходов к решению проблем тонкопленочных технологий и покрытий.

Keywords: VACUUM TECHNOLOGICAL EQUIPMENT, THIN FILM COATINGS

Abstract