Вакуумно-плазменное оборудование с модифицированными магнетронными распылительными системами

Ключевые слова: вакуумное оборудование, вакуумно-плазменная камера магнетронная распылительная система, металлизация, ионизация

Аннотация

Рассмотрено несколько конструкций технологических вакуумно - плазменных камер с планарными магнетронными распылительными системами, снабженными средствами дополнительной ионизации распыленного материала мишеней для металлизации глубоких отверстий и щелей при формировании контактов c заполнением высокоаспектных структур в микроэлектронике.

Keywords: vacuum equipment, vacuum plasma chamber magnetron spray system, metallization, ionization

Abstract

Several designs of technological vacuum-plasma chambers with planar magnetron sputtering systems equipped with means of additional ionization of the sprayed target material for metallization of deep holes and crevices during the formation of contacts with filling of high-aspect structures in microelectronics are considered.