Привносимая дефектность при формировании наноструктур в вакууме

Ключевые слова: привносимая дефектность, вакуумное оборудование, микро и наноэлектроника, молекулярные загрязнения, трибодесорбция.

Аннотация

Проанализированы основные источники привносимой дефектности изделий микро и наноэлектроники в вакуумном технологическом оборудовании кластерного типа.  Рассмотрены механизмы формирования потоков мелкодисперсных частиц в шлюзовых и технологических вакуумных камерах, молекулярных загрязнений и следов металлов в результате изнашивания конструкционных материалов и трибодесорбции.

Keywords: micro-contamination, vacuum equipment, micro and nanoelectronics, molecules contamination, tribo-desorption

Abstract

Main sources of micro-contamination in micro and nano-electronics devices in vacuum cluster tool systems were analyzed. Generation mechanism of microparticles flow at load lock and processing vacuum chambers, molecules contamination and metal particles as a results of construction materials wear and tribo-desorption were shown.