Исследование влияния параметров процесса наносферной литографии на размеры островковых наноструктур

Ключевые слова: тонкая плёнка, наноструктура, массив островков, островковая наноструктура, наносферы, наносферная литография, математическая модель.

Аннотация

Статья раскрывает актуальность регулярных массивов островковых тонких пленок. Построена математическая модель зависимости высоты металлических островков от диаметра наносфер и толщины покрытия. Проведено исследование влияния мощности источника ионов и времени на толщину металлизации для последующего формирования островков.

Keywords: thin film, nanostructure, array of islands, islet nanostructure, nanospheres, nanosphere lithography, mathematical model.

Abstract

The article reveals the relevance of regular arrays of island thin films. A mathematical model of the dependence of the height of metal islands on the diameter of the nanospheres and the thickness of the coating is constructed. The study of the influence of the ion source power and time on the metallization thickness for the subsequent formation of islands is carried out.