Экспериментальное исследование вакуумно-плазменных процессов атомно-слоевого осаждения пленок

Ключевые слова: атомно-слоевое осаждение, оксид титана, оксид гафния

Аннотация

Представлены результаты работы на экспериментальной установке для плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения сверхтонких пленок на пластины диаметром 200 мм. Приведены данные о неравномерности толщины покрытий оксида титана (TiO2) и оксида гафния (HfO2) по диаметру пластин.

Keywords: atomic layer deposition, titanium oxide, hafnium oxide.

Abstract

The results of investigations on an experimental system for plasma-enhanced atomic-layer deposition of ultrathin films on 200 mm diameter wafers are presented. Data on the thickness nonuniformity of titanium oxide (TiO2) and hafnium oxide (HfO2) coatings over the diameter of the wafers are presented.