Динамический режим нанесения углеродных и фторуглеродных покрытий НЧ-плазмотроном атмосферного давления.

Елинсон В.М., Шведов А.В.
Ключевые слова:

Аннотация

В настоящей работе показаны результаты исследования осаждения из газовой фазы углеродных и фторуглеродных покрытий при помощи низкочастотного плазмотрона низкотемпературной плазмы атмосферного давления в динамическом режиме нанесения. Описан процесс динамического режима обработки поверхности подложек. Представлены результаты процесса формирования тонких углеродных и фторуглеродных структур. Исследована возможность получения и влияние технологических параметров процесса осаждения из газовой фазы углеродных и фторуглеродных покрытий.

Deposition of carbon and fluorocarbon coatings by LF Plasmatron at atmospheric pressure in dynamic mode.

Elinson V.M., A.V. Shvedov
Keywords:

Abstract

This paper shows the results of CVD carbon and fluorocarbon coatings study using a low-frequency plasmatron of a low-temperature atmospheric-pressure plasma in a dynamic deposition mode. The procedure of substrate surface dynamic processing is described. The results of the thin carbon and fluorocarbon structures formation are presented. The influence of the technological parameters of carbon and fluorocarbon CVD coatings is studied.