Вакуумное нанесение и исследование методом АСМ ультратонких пленок MoS2

Ключевые слова:

Аннотация

Представлены результаты АСМ-исследований ультратонких пленок дисульфида молибдена (толщиной от 3 до 13 нм), полученных методом магнетронного распыления мишени в вакууме в течение 10, 20 и 30 секунд на подложках кремния. Выполнена оценка структурных особенностей полученных образцов пленок, определено влияние времени осаждения на шероховатость, размер кристаллов, асимметрию и фрактальную размерность.

Keywords:

Abstract

The results of AFM studies on molybdenum disulfide ultrathin films (with a thickness of 3 to 13 nm) obtained by the method of magnetron sputtering of MoS2 target for 10, 20 and 30 seconds on silicon substrates in vacuum are presented. The structural features of the obtained film samples are estimated and the influence of deposition time on surface roughness, crystal size, asymmetry and fractal dimension is determined.