Осаждение сверхтонких пленок в вакууме для изделий наноэлектроники
Панфилов Ю.В., Москалев Д.О, Родионов И.А. , Рыжиков И.А., Бабурин А.С. , Лотков Е.С.
Ключевые слова:
Аннотация
Представлены результаты исследований процесса осаждения пленок толщиной менее 100 нм методом электронно-лучевого испарения на специальном вакуумном технологическом оборудовании. Приведены результаты расчета величины энергомассопереноса для получения пленок ITO, Ag и Al с заданной структурой, однородностью состава и шероховатостью.Vacuum technology of ultra thin films for nanoelectronic products manufacturing.
Panfilov U.V., Moskalev D.O., I.A.Rodionov, Ryzhikov I.A., A.S.Baburin, E.S. Lotkov
Keywords:
