Фотолитография с теневым экспонированием: состояние и перспективы

Ключевые слова:

Аннотация

Проведен анализ возможностей и перспектив систем фотолитографии с теневым экспонированием. Приведена классификация систем на основе выделения в технологических комплексах наиболее существенных объектов рассмотрения: целей, методов, средств (оборудования). Выделены две наиболее крупные группы технологических методов, реализующих процессы в контакте и микрозазоре, проанализированы методы повышения разрешения теневой фотолитографии, направления и достижения в области разработки соответствующего оборудования. Выявлены направления развития систем теневой фотолитографии для достижения субволнового разрешения.

Keywords:

Abstract

The analysis of the capabilities and prospects of photolithography systems with shadow exposure is made. The classification of systems based on the allocation in technological complexes of the most essential objects of consideration: goals, methods, means (equipment) is given. The two largest groups of technological methods that implement processes in contact and microgap are identified, methods for increasing the resolution of shadow photolithography, directions and achievements in the development of appropriate equipment are analyzed. The directions of the development of shadow photolithography systems to achieve sub-wave resolution are revealed.