Оптимизация процесса получения фотоннокристаллических масок для наносферной литографии

Ключевые слова:

Аннотация

Перспективным способом получения массивов наночастиц и двумерных фотонных кристаллов является наносферная литография. В работе представлены результаты экспериментальных исследований процесса формирования фотоннокристаллического коллоидного слоя, выполняющего роль маски. Наиболее технологичным способом формирования такой структуры является метод вертикального вытягивания подложки из коллоидного раствора. За счет варьирования параметрами раствора и скоростью движения подложки метод позволяет получать фотоннокристаллические пленки с заданными характеристиками. В работе представлены результаты оптимизации процесса формирования пленок.

Keywords:

Abstract

Nanosphere lithography is a perspective method of nanoparticles and two dimensional photonic crystals obtaining. We present the results of the experimental investigation of vertical deposition process and optimizing the films deposition conditions necessary to obtain desired film properties. Vertical deposition method has gained great interest because of its simplicity and possibility of condition variation.