Установка обработки плазмой низкого давления MPCOne
Моисеев К.М., Васильев Д.Д., Рыбальченко Я.Г., Павленко А.Д.
Ключевые слова:
Аннотация
В работе представлен обзор современных установок для обработки плазмой низкого давления. Обозначена проблема отсутствия установок отечественного производства. Приведено описание и преимущества разработанной отечественной установки MPCOne. Продемонстрированы результаты отработки ее технологических возможностей.Low pressure plasma treatment system MPCOne.
Moiseev K.M., Vasiliev D.D., Ya.G. Rybal'chenko, A.D. Pavlenko
Keywords: