Анализ возможностей и перспектив методов нанолитографии с позиции синергетики

Ключевые слова:

Аннотация

В работе проведен анализ возможностей и перспектив методов нанолитографии, проведена их классификация по наиболее существенным признаку - способу воздействия на подложку: единовременно или последовательнo резистизлучением, потоком частиц или непосредственным физико-механическим воздействием. Выделены две наиболее крупные группы технологических методов, реализующих процессы вида topdown (сверху вниз),и bottomup (снизу вверх). Показано, что во второй группе наиболее перспективны методы, реализующие синергетический принцип самоорганизации наноструктур с использованием паттерна из фоторезиста в роли аттрактора.

Keywords:

Abstract

The analysis of the possibilities and perspectives of nanolithography methods is given. The classification of these methods is based on the most significant features - use of the resist (along with a radiation or stream of particles) or direct physical-mechanical impact. Two largest groups of technological methods are selected which implement processes in the forms of “ top down” and “bottom up”. It is shown that in the second group the most promising methods are those which implement the synergetic principles of self-organization of nanostructures using photo-resist pattern as an attractor.