Исследование зависимости плотности пиковой мощности на магнетроне от параметров процесса импульсного магнетронного распыления
Моисеев К.М., Васильев Д.Д., Акишин М.Ю. , Малеванная Е.И.
Ключевые слова:
Аннотация
В работе представлены эксперименты по влиянию коэффициента заполнения импульсного сигнала и его частоты на пиковую мощность при импульсном магнетронном распылении вольфрама, проведен полный факторный эксперимент с центральным ротатабельным планом, получена и проанализирована математическая модель.Research of the influence of pulsed magnetron sputtering process parameters on magnetron peak power density.
Moiseev K.M., Vasiliev D.D., M.Y.Akishin, E.I. Malevannaya
Keywords:
