Новые вакуумно-плазменные процессы и оборудование для микроэлектроники
Одиноков В.В.
Ключевые слова:
Аннотация
Рассмотрены актуальные вакуумно-плазменные процессы для микроэлектроники: процессы атомно-слоевого осаждения, плазмохимического травления, формирования мелкощелевой изоляции и очистки поверхности пластин.The new vacuum-plasma processes and equipment for microelectronics.
Odinokov V.V.
Keywords:
