Универсальное решение для PVD-технологий: как одна установка может заменить несколько специализированных систем.

Ключевые слова: PVD, ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, ИОННЫЙ ИСТОЧНИК, ТЕХПРОЦЕСС, OLED

Аннотация

Для научных исследований в области микроэлектроники, фотоники, физики и химии поверхности применяется различное сложное оборудование. Исследователи сталкиваются с ограничениями как по бюджету в рамках гранта, так и с площадью чистого помещения.
В компактную универсальную установку EPOS-PVD-E-MAG мы можем одновременно разместить оборудование для четырёх различных методов напыления:
•    Электронно-лучевой испаритель с загрузкой материалов в 1, 4 или 6 тиглей, с поворотом луча на 270 градусов.
•    Магнетроны с DC или RF питанием для распыления металлов и диэлектриков, с возможностью регулируемого наклона для конфокального напыления (до 3-х шт.)
•    Две лодочки (резистивные испарители) с током до 300 А.
•    Низкотемпературные испарители с тиглем (до 3-х шт.), для органических веществ и йодидов, с точным контролем температуры до 400 С или 600 С.
Автоматизированные заслонки источников могут быстро останавливать напыление по сигналу от датчика толщины. Потоки ионов из источника ионов типа Энд-холл не повреждают выращенные ранее структуры при очистке и ассистировании.
Для увеличенной однородности напыления создана карусель с двойным независимым вращением. Подложка может точно позиционироваться над выбранным источником, а затем вращаться вокруг своей оси. Нами разработаны три варианта нагревателей подложек – до 350 С, до 500 С, до 800 С.
Все технологические узлы установок разработаны и произведены на нашем предприятии. Высокая степень автоматизации обеспечивает точность и повторяемость результатов, минимизируя влияние человеческого фактора и повышая производительность.

Keywords: PVD, ELECTRON BEAM EVAPORATOR, ION SOURCE, PROCESS TECHNOLOGY, OLED

Abstract