Исследование влияния реактивного плазменного травления на структуру поверхности LTCC

Ключевые слова: LTCC, НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ КЕРАМИКА, ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ, РЕНТГЕНОСТРУКТУРНЫЙ АНАЛИЗ

Аннотация

Низкотемпературная совместно обжигаемая керамика (low-temperature co fired ceramic, LTCC) применяется во многих областях промышленности благодаря высокой диэлектрической проницаемости (ε = 6–9) и низкому тангенсу угла диэлектрических потерь (tgδ_ε = 10-4). Этот материал используется для корпусирования СВЧ устройств.
Ранее проведенные авторами исследования по оценке влияния процесса плазменной обработки (ПО) на поверхность LTCC в различных газовых средах показали значительное улучшение адгезионных свойств, что способствует повышению качества нанесенных на поверхность LTCC тонкопленочных покрытий или фоторезиста с целью формирования требуемой топологии. Однако данных по оценке влияния ПО на структуру поверхности LTCC недостаточно.
Целью работы является исследование влияния реактивного плазменного травления на структуру поверхности низкотемпературной совместно спекаемой керамики.
Поставлены и проведены исследования ПО обожженных и сырых образцов LTCC в газовых средах с различным содержанием кислорода (от 0 до 50 %) и аргона (от 50 до 100 %) на установке TRION SIRUS T2 на базе лаборатории кафедры «Электронные технологии в машиностроении» МГТУ им.Н.Э.Баумана. Проведен рентгеноструктурный анализ сырых и спеченных при разных режимах образцов до и после ПО. Получение спектров проводили на установке ДРОН-4.
Результатом работы стало исследование полученных рентгенограмм в программном комплексе Match!4. Полученные данные дают достаточное представление о влиянии плазменного травления на структуру поверхности LTCC и, в частности, на основной компонент образцов – оксид алюминия.
В дальнейшей работе планируется исследование влияния ПО в вакууме на электрические характеристики LTCC.

Keywords: LTCC, LOW-TEMPERATURE CO-FIRED CERAMIC, PLASMA ETCHING, X-RAY STRUCTURAL ANALYSIS

Abstract