Система комбинированных движений для оптимизации процессов в вакууме
Купцов А.Д., Сидорова С.В., Руденко А. М.
Ключевые слова: КОМБИНИРОВАННЫЙ ПРИВОД, ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ ПОКРЫТИЯ, ВАКУУМНЫЕ ПРОЦЕССЫ, ВАКУУМНАЯ ТЕХНИКА
Аннотация
Тонкопленочные покрытия (ТП) задают функциональность микросхем, датчиков, дисплеев и других электронных компонентов. При масштабировании устройств в нанометровый диапазон особую важность приобретают прецизионность нанесения, однородность и равномерность структуры покрытий. Элионные технологии представляют собой один из перспективных методов формирования ТП в диапазоне толщин 0,1–1,0 мкм.Целью работы является разработка универсальной системы, предназначенной для формирования ТП в вакууме с контролируемой равномерностью и варьируемой толщиной.
Проведена модернизация технологической оснастки установки МВТУ-11-1МС, расположенной на кафедре «Электронные технологии в машиностроении» МГТУ им.Н.Э.Баумана. Расстояние между источником и подложкой – ключевой фактор, определяющий качество покрытия (скорость осаждения обратно пропорциональна квадрату расстояния).
Главной особенностью разработанной конструкции является возможность регулировки скорости осаждения без нарушения вакуумной герметичности рабочей камеры. Система оснащена поступательным и вращательным приводами. Поступательное движение подложкодержателя позволяет регулировать расстояние между источником и подложкой от 20 до 100 мм. Вращение в диапазоне 0,5–50,0 об/мин обеспечивает необходимую равномерность покрытия (до 90% по подложке размером 48х60 мм2).
Разработанная конструкция представляется перспективным решением для формирования ТП, обеспечивая высокую воспроизводимость с заданными параметрами равномерности.
System of combined movements for processes optimization in vacuum
Kuptsov A.D., Sidorova S.V., A.M. Rudenko
Keywords: COMBINED DRIVE, THIN-FILM COATINGS, VACUUM PROCESSES, VACUUM TECHNIC
