Поверхностное сопротивление при механических нагрузках пленок оксида IN-SN, сформированных магнетронным распылением
Белянин А.Ф. , Павлюкова Е.Р., Сушенцов Н.И., Пащенко П. В.
Ключевые слова: ПЛЕНКИ ОКСИДА ИНДИЯ-ОЛОВА, СЛОИСТЫЕ СТРУКТУРЫ, МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ
Аннотация
Пленки оксида In–Sn (ITO) состава In1.8Sn0.2O3 толщиной 100 нм наносили на подложки из листового полиэтилентерефталата (ПЭТ) толщиной 0,2 мм и слоистой структуры ПЭТ/Cu (толщина пленки Cu 30 нм) методом реактивного ВЧ-магнетронного распыления мишени из сплава 90 ат.% In и 10 ат.% Sn в газовой смеси Ar и O2. На пленки ITO наносили контактные площадки из Cu толщиной 1 мкм. Пленки Cu на ПЭТ и ITO наносили магнетронным распылением мишеней из Cu в режиме постоянного тока.Пленки ITO характеризовались различным соотношением концентраций кристаллических и аморфных нанокластеров. Поверхностное сопротивление пленок ITO зависело от их строения и составляло от 10 Ом/□ до 7,5 кОм/□. Изучено изменение сопротивления пленок ITO в слоистых структурах ПЭТ/ITO и ПЭТ/Cu/ITO (размер образцов 25×76 мм) при механической нагрузке на растяжение (до 6 кгс) и изгиб. При растяжении образцов ПЭТ/ITO сопротивление ITO не изменялось или незначительно уменьшалось на ~7% и плавно возвращалось к исходной величине при снятии нагрузки. Для образцов ПЭТ/Cu/ITO характерно уменьшение сопротивления на ~5% при нагрузке и увеличивалось на ~9,5% при снятии нагрузки. Изменение сопротивления при нагрузке на растяжение зависело от концентрации текстурированной поликристаллической фазы пленок ITO. При изгибе образцов на угол ≥30о нарушалась сплошность пленки ITO и ее сопротивление увеличивалось более чем на порядок.
Surface resistance under mechanical loads of in-sn oxide films formed by magnetron sputtering
А.F. Belyanin, E.R. Pavlyukova, N.I.Sushentsov, P.V. Paschenko
Keywords: INDIUM TIN OXIDE FILMS, LAYERED STRUCTURES, MAGNETRON SPUTTERING
