Исследование влияния расхода реактивного газа на физические свойства пленок оксидов металлов при реализации технологии магнетронного распыления
Шашин Д.Е., Смирнова А.Н.
Ключевые слова: МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ, ТОНКИЕ НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫЕ ПЛЕНКИ ЦИНКА, РАСХОД РЕАКТИВНОГО ГАЗА, ОКСИДЫ
Аннотация
В данной статье описано исследование влияния расхода реактивного газа на физические свойства пленок оксидов металлов при реализации технологии магнетронного распыления на модернизированной установке УРМ 3.279.014 предназначенной для реализации технологии формирования наноструктурированных пленок различных металлов и их соединений.Study of the influence of reactive gas consumption on the physical properties of metal oxide films when implementing magnetron spraying technology
D.E. Shashin, A.N. Smirnova
Keywords: MAGNETRON SPRAYING, THIN NANOSTRUCTURED ZINC FILMS, REACTIVE GAS CONSUMPTION, OXIDES
