Получение графитовых тонких пленок методом высокомощного импульсного магнетронного распыления
Колесник Л.Л., Мьо Ти Ха, Лю Хаоцэ , Ли Чунцун
Ключевые слова: ВЫСОКОЕМОЩНОЕ ИМПУЛЬСНОЕ МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ; ГРАФИТОУГЛЕРОДНАЯ ПЛЕНКА; ХАРАКТЕРИСТИКИ РАЗРЯДА; СКОРОСТЬ ОСАЖДЕНИЯ；
Аннотация
По сравнению с обычным магнетронным распылением на постоянном токе (DCMS), HiPIMS обеспечивает высокую плотность плазмы и ионизацию, что приводит к улучшению адгезии, плотности и однородности пленки.Поскольку скорость диссоциации атомов углерода в обычных тлеющих разрядах очень мала, получение большого количества ионов углерода в HiPIMS важно для осаждения тонких пленок и структурной модуляции. Однако, большая часть ионов углерода, генерируемых вблизи катода, возвращается к поверхности мишени и практически не осаждается на поверхности подложки. Этот недостаток устраняется или смягчается путем модуляции формы волны импульса.
В эксперименте использовалось магнетронное распыление с источником высокомощных импульсов, в качестве субстрата применялась керамика из оксида алюминия, в качестве мишени для распыления - круглая графитовая мишень. Покрытия синтезированы путем распыления катода графита ионами Ar+. В процессе магнетронного распыления мощность была установлена на уровне 1000 вольт для обеспечения эффективного распыления мишени и достаточной энергии распыленных частиц. Частота и коэффициент заполнения являются одними из лучших условий для достижения высокого качества пленки и однородности структуры.
Preparation of graphite thin films by high-power pulsed magnetron sputtering
Kolesnik L.L., Myo Thi Ha, Haoze Liu, Chongcong Li
Keywords: HIGH POWER PULSED MAGNETRON SPUTTERING; GRAPHITOCARBON FILM; DISCHARGE CHARACTERISTICS; DEPOSITION RATE；
