Особенности формирования многослойных структур методом магнетронного распыления
Шашин Д.Е., Романов А. Л. , Дьячков А. Д., Волков К. А.
Ключевые слова: МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ, МНОГОСЛОЙНАЯ СТРУКТУРА, ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ СТРУКТУРА
Аннотация
Технология формирования многослойных структур позволяет создавать системы с новыми или заданными свойствами, благодаря которым возможно расширять или оптимизировать многие процессы и технологии. В данной работе рассмотрены особенности формирования многослойных структур методом магнетронного распыления.Существует три основных способа формирования многослойных структур методом магнетронного распыления: попеременное включение и выключение магнетронов; закрытие и открытие магнетронов заслонками; вращение подложек.
Несмотря на имеющиеся разнообразие методов напыления, они все имеют существенные недостатки, поэтому существует комбинированный метод напыления: на вращающийся подложкодержатель с использованием заслонок.
Многослойные структуры применяются во многих областях науки и техники: микроэлектроника, материаловедение, криоэлектроника, машиностроение, оптика, энергетика, военная промышленность, космическая техника.
Features of the formation of multilayer structures by magnetron sputtering
D.E. Shashin, A.L. Romanov, A.D. Dyachkov, K.A. Volkov
Keywords: MAGNETRON SPUTTERING, MULTILAYER STRUCTURE, THIN FILM STRUCTURE
