Управление энергетическим воздействием на подложку путем изменения параметров импульсов электропитания магнетронной распылительной системы
Гренадёров А.С., Захаров А.Н., Оскирко В.О., Семенов В.А., Соловьев А.А.
Ключевые слова: сильноточное импульсное магнетронное распыление, полная и удельная энергия, поток энергии на подложку
Аннотация
На примере использования трех металлических мишеней (Al, Ti, Cr), продемонстрирована возможность управления удельной энергией, передаваемой покрытию в процессе его роста за счёт изменения длительности и частоты импульсов питания при фиксированной средней мощности разряда, давлении рабочего газа и расстоянии от мишени до подложки. Показано, что уменьшение длительности импульсов разрядного тока со 100 до 10 мкс приводит к увеличению потока энергии на плавающую подложку примерно на 40 %. Подача на подложку отрицательного потенциала -100 В увеличивает поток энергии на подложку на 70%. Уменьшение длительности импульсов разрядного тока с 50 до 5 мкс или снижение коэффициента заполнения с 15 до 2 % позволяет в 2 раза увеличить значение энергии, приходящейся на единицу объема покрытия, наносимого в процессе HiPIMS.Controlling the energy impact on the substrate by changing the pulses parameters of the magnetron sputtering system power supply
Grenadyorov A.S., Zakharov A.N., Oskirko V.O., Semenov V.A., Solovyev A.A.
Keywords: hipims, total and normalized energy, energy flux on substrate
