Вакуумная электронно-лучевая установка
Одиноков В.В., Хошев А.В., Аверьянов Е.В., Костюков Д.А., Овцын А.А.
Ключевые слова: вакуум, нанесение, испарение, технология, тигель, шлюз, оснастка, пластины
Аннотация
Разработана новая вакуумная установка (ЭЛУ ТМ 1Ш) с многотигельным электронно-лучевым испарителем (ЭЛИ) и шлюзовой загрузкой групповых подложкодержателей под пластины 100-150 мм. Установка предназначена в основном для нанесения однослойных или многослойных пленок в технологии взрывной фотолитографии.В состав вакуумной установки ЭЛУ ТМ 1Ш входят следующие основные узлы: прогреваемая шлюзовая камера; технологическая камера, привод вращения карусели; измеритель толщины, лампы ИК нагрева; пирометр; камера испарителя с электронно-лучевой пушкой; три турбомолекулярных насоса; два форвакуумных насоса; элементы гидравлической и пневматической систем охлаждения.
Наличие шлюзовой камеры позволяет поддерживать рабочее давление и состав газовой среды в технологической камере на требуемом уровне от процесса к процессу и воспроизводить требуемые параметры тонкой плёнки металлов.
В шлюзовую камеру возможно загрузить два подложкодержателя с 5 пластинами диаметром 150 мм на каждом. Шлюз оборудован датчиками положения подложкодержателей. Транспортно-загрузочная система обеспечивает автоматическую загрузку подложкодержателей из шлюзовой камеры в технологическую.
Измеритель толщины имеет 6 позиций с резонаторами (кварцевыми кристаллами), настроенными на определённый металл. Измеритель толщины позволяет наносить плёнки металла с заданной точностью.
Электронно-лучевая пушка имеет 6-ти позиционный поворотный тигель и расположена в отдельной камере испарителя. Эта камера снабжена двухступенчатой системой откачки, состоящей из турбомолекулярного и форвакуумного насосов, которая обеспечивает достижение высокого вакуума после загрузки материала в тигель.
Каждая позиция в тигле предназначена для распыления одного материала, при этом для загрузки используется тугоплавкий тигель. Материал вставки выбирается исходя из физико-химических особенностей испаряемого материала.
Вакуумная установка ЭЛУ ТМ 1Ш электронно-лучевого испарения позволяет проводить качественные процессы нанесения и получать тонкие плёнки металлов с высокой точностью воспроизведения параметров. Установка предназначена для применения при производстве современных изделий микро- и наноэлектроники.
Vacuum electron beam evaporation unit
Odinokov V.V., A.V. Khoshev, E.V. Averyanov, D.A. Kostyukov, A.A. Ovtsyn
Keywords: vacuum, deposition, evaporation, technology, crucible, silicon wafers, equipment
