Оценка влияния технологических режимов формирования на сопротивление алюминиевой островковой тонкой пленки

Ключевые слова: режим формирования, алюминиевая островковая пленка, математическая модель

Аннотация

Получена математическая модель зависимости сопротивления островковой тонкой плёнки алюминия от параметров технологического процесса (время, расстояние испаритель-подложка, ток испарителя). Проведены эксперименты по формированию тонких пленок алюминия при варьировании управляющего модулем термического испарения тока, времени нанесения и расстоянии испаритель-подложка. Определено влияние параметров технологического процесса формирования на сопротивление и структуру пленки алюминия. На атомно-силовом микроскопе Solver NEXT получены 2D и 3D изображения тонких пленок алюминия.

Keywords: formation mode, aluminium islet thin film, mathematical model

Abstract

A mathematical model is obtained for the dependence of the aluminum islet thin film resistance on the parameters of the technological process (time, evaporator-substrate distance, evaporator current). Experiments were carried out on the formation of thin aluminum films by varying the current controlling the thermal evaporation module, the deposition time, and the evaporator-substrate distance. The influence of the parameters of the technological process formation on the resistance and structure of the aluminum film is determined. 2D and 3D images of thin aluminum films were obtained using a Solver NEXT atomic force microscope.