Дуальная магнетронная распылительная система с пакетно-импульсным модулированным биполярным напряжением питания

Ключевые слова:

Аннотация

Приведены результаты использования пакетно-импульсного биполярного напряжения питания применительно к дуальной магнетронной распылительной системе. Использование пакетных импульсных режимов дуального магнетронного распыления позволяет в пять раз
увеличить плотность разрядного тока и в 20 раз плотность мощности на поверхности распыляемой мишени, в сравнении с традиционными режимами магнетронного распыления на постоянном и среднечастотном токе и обеспечивает более высокую концентрацию плазмы и
плотность ионного тока насыщения. Концентрация плазмы в процессе экспериментов достигала величины 7·1011 см-3 на расстоянии 12 см от поверхности мишени.

Keywords:

Abstract

The results of the use of packet-pulse bipolar supply voltage applied to the dual magnetron sputtering system are presented. The use of packet pulse modes of dual magnetron sputtering allows to increase the discharge current density five times and the power density 20 times on the surface of the sputtered target in comparison with the traditional modes DC and MF magnetron sputtering. This provides a higher plasma concentration and ionic saturation current density. The plasma concentration in the experiments reached 7·1011 cm-3 at a distance of 12 cm from the target surface.