Защитные наноструктурированные пленки нитридов металлов (TiN, ZrN, AlN) и углеродных материалов

Ключевые слова:

Аннотация

Рассмотрено влияние условий формирования на состав и строение наноструктурированных пленок нитридов металлов (TiN, ZrN и AlN), пленок алмаза и алмазоподобных углеродных пленок. Пленки TiN, ZrN и AlN получали методами дугового разряда и ВЧ-магнетронного
распыления. Пленки алмаза выращивали из газовой смеси водорода и метана, активированной дуговым разрядом. Алмазоподобные углеродные пленки получали методами ВЧ-магнетронного распыления, диодного ВЧ-разряда в газовой смеси циклогексана и водорода и распыления графита ионным пучком. Исследована взаимосвязь состава и строения синтезированных пленок с механическими свойствами слоистых структур на их основе.

Keywords:

Abstract

The influence of formation conditions on the composition and structure of nanostructured films of metal nitrides (TiN, ZrN and AlN), diamond films and diamond-like carbon films is considered. Films of TiN, ZrN and AlN are obtained by arc discharge and RF-magnetron sputtering methods. Diamond films are grown from the gas mixture of hydrogen and methane, activated by an arc discharge. Diamond-like carbon films are obtained by RFmagnetron sputtering methods, a diode RF discharge in a gas mixture of cyclohexane and hydrogen, and sputtering graphite with an ion beam. The interrelation of the composition and structure of synthesized films with the mechanical properties of layered structures based on them is investigated.