Изучение эпитаксиального соответствия карбида кремния на кремнии

Егоров В.К, Егоров Е.В., Кукушкин Д.Ю., Осипов А.В.
Ключевые слова:

Аннотация

В работе дана краткая характеристика метода каналирования ионов в материале, позволяющего однозначно интерпретировать наличие/отсутствие структурной гетероэпитаксии. Описаны структурные особенности кристаллического строения Si и SiC. Приведены экспериментальные данные, доказывающие наличие гетероэпитаксии в структурной композиции SiC (00l)/Si (111) для пленки политипа карбида кремния 6Н толщиной 100 нм.

Study of silicon carbide epitaxy on silicon substrate

Egorov V.K., Egorov E.V., Kukushkin D.Y., A.V. Osipov
Keywords:

Abstract

The work presents a short description of the ion beam channeling method for material diagnostics. It makes possible to explain the presence / absence of structure heteroepitaxy. Peculiarities of Si and SiC crystal construction are discussed. Experimental data are presented proving the heteroepitaxy existence in SiC (00l)/Si (111) structural composition when the carbon silicide coating has 6H polytype modification with the thickness 100 nm.