Влияние режимов ионной обработки на шероховатость металлических поверхностей

Ключевые слова: Ионное травление, ионный источник, шероховатость, угол смачивание, модификация поверхности

Аннотация

Рассмотрена актуальность применения ионного травления при создании компонентов микро- и наноэлектроники. Описаны методы исследования влияния технологических параметров ионного травления на шероховатость и угол смачивания металлических образцов. Изучено влияние времени ионной обработки, угла падения ионного луча и потока рабочего газа на качество получаемой поверхности. Определен режим обработки, подходящий для достижения минимального значения параметра шероховатости металлических образцов.

Keywords: Ion etching, ion source, roughness, contact angle, surface modification

Abstract

The relevance of the use of ion etching in the creation of micro- and nanoelectronics components is considered. Methods for studying the effect of ion etching parameters on the roughness and contact angle of metal samples are described. The influence of the ion treatment time, the angle of incidence of the ion beam, and the flow of the working gas on the quality of the resulting surface was studied. The processing mode suitable for achieving the minimum value of the roughness parameter of metal samples is determined.