Реактивное магнетронное распыление цинковой мишени в парах воды
Абдуев А.Х., Ахмедов А.К., Асваров А.Ш., Эмиров Р. М.
Ключевые слова:
Аннотация
Исследованы процессы осаждения и состав слоев при dc магнетронном распылении металлической цинковой мишени в среде Ar-H2O . Показано, что максимальный размер зерен и максимальная скорость роста фазы ZnO достигается при наличии на поверхности ростаатомов воды в состоянии, близком к равновесному. Рассмотрены вероятные механизмы взаимодействия паров цинка и воды на поверхности роста.
Reactive magnetron sputtering deposition of thin films in water vapor.
Abduev A.Kh., Akhmedov A.K., Asvarov A. Sh., R.M.Emirov
Keywords: