Реактивное магнетронное распыление цинковой мишени в парах воды

Абдуев А.Х., Ахмедов А.К., Асваров А.Ш., Эмиров Р. М.
Ключевые слова:

Аннотация

Исследованы процессы осаждения и состав слоев при dc магнетронном распылении металлической цинковой мишени в среде Ar-H2O . Показано, что максимальный размер зерен и максимальная скорость роста фазы ZnO достигается при наличии на поверхности роста
атомов воды в состоянии, близком к равновесному. Рассмотрены вероятные механизмы взаимодействия паров цинка и воды на поверхности роста.

Reactive magnetron sputtering deposition of thin films in water vapor.

Abduev A.Kh., Akhmedov A.K., Asvarov A. Sh., R.M.Emirov
Keywords:

Abstract

The deposition processes and the phase composition of layers deposited at dc magnetron sputtering of a metal zinc target in an Ar-H2O atmosphere are investigated. It is shown that the maximum grain size and maximum growth rate of the ZnO phase is achieved when there are water atoms on the surface in a state close to the equilibrium. The probable mechanisms of interaction of zinc vapors and water on the growth surface are considered.