Разработка и производство современной установки для высокопроизводительного нанесения многослойной металлизации методом магнетронного распыления

Ключевые слова:

Аннотация

Описан проект по созданию установки, реализующей технологию магнетронного распыления для нанесения многослойных покрытий со скоростью напыления до 400 нм/мин и производительностью 160 подложек в смену для двухсторонней металлизации толщиной
более 20 мкм.Показаны особенности разработки и производства современного технологического оборудования в короткие сроки.

Keywords:

Abstract

A project to create an equipment that implements magnetron sputtering technology for deposition of multilayer coatings with a rate of up to 400 nm / min and a capacity of 160 substrates per shift for two-sided metallization with a thickness of more than 20 microns is described. The details of the development and production of modern technological equipment in a short time are shown.