Формирование переходного слоя в Si-металл омическом контакте при вакуумной ионно-плазменной обработке
Пищагин В.В., Пашков М.В., Лысаковский Б.А., Костромин Д.А.
Ключевые слова:
Аннотация
Проведено исследование влияния ионно-плазменного ассистирования напыления NI и Ti/Pt/Au контактных композиций на структуру тонких плёнок, формирование переходных слоёв SiTi2 и SiNi и электрических характеристик контактов.Formation of transmission layer in Si-metal ohmic contact under vacuum ion-plasma treatment.
V.V. Pischagin, M.V. Pashkov, B.A. Lysakovsky, D.A. Kostromin
Keywords:
