Условия структурного упорядочения слоев Zn и ZnO при магнетронном осаждении

Ключевые слова:

Аннотация

Исследовано влияние давления рабочего газа на состав потока реагентов к подложке и структуру слоев, формируемых при магнетронном распылении металлических мишеней Zn и керамических мишеней ZnO при низких температурах подложек. Показана немонотонная
зависимость процесса структурного упорядочения слоев Zn от давления рабочего газа и тока разряда. Обнаружено относительное увеличение размеров зерен и диаметра столбов слоев ZnO при осаждении на подслоях Zn. Рассмотрены механизмы наблюдаемых процессов.

Keywords:

Abstract

The influence of the working gas pressure on the composition of reagent flow and the structure of Zn and ZnO films formed on cooled substrates by magnetron sputtering of metal and ceramic targets has been investigated. The non-monotonic dependence of the Zn films structural ordering process on the Ar gas pressure and the discharge current is revealed. It is shown that the presence of excess zinc vapor in the gas phase increases the migration length for ZnO molecules on the growing surface. It is also shown that the grain size and columns diameters of ZnO films might be increased by deposition of ZnO film on the preliminary formed Zn sublayers. Possible mechanisms of the observed processes are considered.