Исследование ультратонких пленок MoS2, формируемых методом физического осаждения в вакууме

Ключевые слова:

Аннотация

В работе представлены результаты оптической спектроскопии ультратонких пленок дисульфида молибдена, полученных на подложках кремния методами постоянного (DCMS) и импульсного (PMS) магнетронного распыления мишени MoS2 в вакууме, а также при осаждении потока на подложку в условиях внешнего магнитного поля. Приведены результаты расчета оптической ширины запрещенной зоны (ШЗЗ) образцов тонких пленок MoS2.

Keywords:

Abstract

The article presents the optical spectroscopy results of molybdenum disulfide ultrathin thin films obtained by the methods of direct current (DCMS) and pulsed (PMS) magnetron sputtering of MoS2 target on Si substrates in vacuum, and also at flux deposition under the influence of external magnetic field on the substrate. Furthermore, the article presents the results of optical band gap calculation for all samples of MoS2 thin films.