Управление реакционным объемом в установках, предназначенных для плазменной обработки порошков в условиях низкого вакуума
Васильева Т.М., Васильев М.Н., Йе ХлаингТун
Ключевые слова:
Аннотация
Исследована возможность управления поведением частиц плазменно-пылевых структур, левитирующих в газовом ВЧ-разряде (13,6 МГц), посредством воздействия на них непрерывных и импульсно-периодических электронных пучков. Выявлены закономерностивоздействия таких пучков на расположение плазменно-пылевой структуры в объеме разряда, пространственное распределение пылевых частиц в различных зонах структуры и характер движения пылевых частиц внутри структуры. Разработана теоретическая модель
управляющего воздействия электронных пучков на свойства плазменно-пылевых структур.
The control of the reaction volume in reactors for plasma treatment of powders under low vacuum conditions.
Vasilieva T.M., Vasiliev M.N., Ye Hlaing Htun
Keywords: